真空鍍膜機各種鍍膜方式的工作原理
發布時間：2017-07-06
真空鍍膜機按鍍膜方式主要可分為：蒸發式鍍膜，磁控濺射鍍膜和離子鍍。
蒸發鍍膜工作原理是將膜材置于真空鍍膜室內，通過蒸發源加熱使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大于真空鍍膜室 的線性尺寸，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，可直接到達被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結其上而成膜。
濺射鍍膜的形成是利用真空輝光放電，加速正離子使其轟擊靶材表面引起的濺射現象，使靶材表面放出的粒子沉積到基片上而形成薄膜。
多弧離子鍍原理是利用真空弧光放電計數用于蒸發源的技術，即在真空環境下引燃蒸發源（陰極），與陽極之間形成自持弧光放電，既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子。由于電流局部的集中，產生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化，在工作偏壓的作用下與反應氣體化合，而沉積在工件表面是形成被鍍的膜層。
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