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面向光伏行業(yè)和磁性材料行業(yè)的立式磁控濺射鍍膜設備。

技術規(guī)格如下：

基材種類 金屬、玻璃、陶瓷、塑料等
基材寬幅 1000-2200mm
基片走速 30-1000mm/min
薄膜均勻性 ±5%
靶材利用率 平面陰極≥30%，移動平面陰極≥60%，旋轉陰極≥80%

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